|
|
Публикации в базе данных Math-Net.Ru
-
Влияние плотности тока на структуру тонких пленок аморфного субоксида кремния при электронно-пучковом отжиге
Прикл. мех. техн. физ., 64:5 (2023), 52–58
-
Измерение температуры расплава кремния при электронно-пучковом рафинировании
Прикл. мех. техн. физ., 64:5 (2023), 39–44
-
Электронно-пучковая кристаллизация тонких пленок аморфного субоксида кремния
Письма в ЖТФ, 47:6 (2021), 26–28
-
Осаждение аморфных и микрокристаллических пленок кремния газоструйным плазмохимическим методом
Физика и техника полупроводников, 53:12 (2019), 1721–1725
-
Осаждение пленок кремния, легированных бором и фосфором газоструйным плазмохимическим методом
Физика и техника полупроводников, 53:1 (2019), 132–136
-
Высокоэффективный источник электронов с полым катодом для технологий осаждения тонких пленок и обработки поверхностей при форвакуумных давлениях
ЖТФ, 88:6 (2018), 914–919
-
Измерение температуры и концентрации вторичных электронов в электронно-пучковой плазме аргона
Прикл. мех. техн. физ., 59:5 (2018), 115–122
-
Осаждение пленок кремния с использованием газоструйного плазмохимического метода: эксперимент и газодинамическое моделирование
Прикл. мех. техн. физ., 59:5 (2018), 22–30
© , 2024