|
|
Публикации в базе данных Math-Net.Ru
-
Светодиод на основе AlInGaN-гетероструктур, выращенных на подложках SiC/Si и технология его изготовления
Письма в ЖТФ, 47:18 (2021), 3–6
-
Особенности эпитаксиального роста III – N светодиодных гетероструктур на подложках SiC/Si
Письма в ЖТФ, 47:15 (2021), 15–18
-
ПЭМ-исследование многослойных буферных структур AlN–AlGaN–GaN на кремниевых подложках
Письма в ЖТФ, 46:19 (2020), 50–54
-
Особенности МПЭ ПА синтеза слоев $n^{+}$-GaN на виртуальных подложках GaN/$c$-Al$_{2}$O$_{3}$
Физика и техника полупроводников, 53:9 (2019), 1212–1217
-
Влияние метода формирования высокоомного буферного слоя GaN на свойства гетероструктур InAlN/GaN и AlGaN/GaN с двумерным электронным газом
Письма в ЖТФ, 44:13 (2018), 51–58
-
Эпитаксиальный рост гетероструктур GaN/AlN/InAlN для HEMT в горизонтальных МОС-гидридных реакторах различных конструкций
Физика и техника полупроводников, 50:9 (2016), 1263–1269
-
Влияние условий выращивания на морфологию поверхности и развитие механических напряжений в слоях Al(Ga)N в процессе газофазной эпитаксии из металлоорганических соединений
Письма в ЖТФ, 42:8 (2016), 86–93
© , 2024