|
|
Публикации в базе данных Math-Net.Ru
-
Особенности эпитаксиального роста III – N светодиодных гетероструктур на подложках SiC/Si
Письма в ЖТФ, 47:15 (2021), 15–18
-
Влияние давления при эпитаксии на свойства слоев GaN
Письма в ЖТФ, 46:24 (2020), 3–6
-
GaN selective epitaxy in sub-micron windows with different depths formed by ion beam nanolithography
Физика твердого тела, 61:12 (2019), 2333
-
Селективный эпитаксиальный рост III–N-структур с использованием ионной нанолитографии
Физика и техника полупроводников, 52:10 (2018), 1237–1243
-
Нитевидные светодиодные микрокристаллы InGaN/GaN субмиллиметровой длины
Физика и техника полупроводников, 51:1 (2017), 101–104
-
Влияние параметров гетероструктур AlN/GaN/AlGaN и AlN/GaN/InAlN с двумерным электронным газом на их электрофизические свойства и характеристики транзисторов на их основе
Физика и техника полупроводников, 50:10 (2016), 1401–1407
-
Эпитаксиальный рост гетероструктур GaN/AlN/InAlN для HEMT в горизонтальных МОС-гидридных реакторах различных конструкций
Физика и техника полупроводников, 50:9 (2016), 1263–1269
© , 2024