|
|
Публикации в базе данных Math-Net.Ru
-
Пластическая релаксация напряженного полуполярного AlN(10$\bar1$1) слоя, синтезированного на наноструктурированной Si(100) подложке
ЖТФ, 90:12 (2020), 2123–2126
-
Газофазная эпитаксия слоев AlN на темплейте AlN/Si(111), синтезированном методом реактивного магнетронного распыления
Письма в ЖТФ, 46:8 (2020), 29–31
-
Хлорид-гидридная газофазная эпитаксия полуполярного слоя AlN(10$\bar{1}$2) на наноструктурированной подложке Si(100)
Письма в ЖТФ, 46:2 (2020), 12–14
-
Синтез гексагональных слоев AlN и GaN на Si(100)-подложке методом хлоридной газофазной эпитаксии
ЖТФ, 89:4 (2019), 574–577
-
Эпитаксия слоев GaN(0001) или GaN(10$\bar1$1) на подложке Si(100)
Письма в ЖТФ, 45:11 (2019), 3–5
-
Гексагональные слои AlN, выращенные на сульфидированной Si(100)-подложке
Письма в ЖТФ, 44:2 (2018), 96–103
-
Остановка и разворот дислокаций несоответствия при росте нитрида галлия на подложках SiC/Si
Физика твердого тела, 59:4 (2017), 660–667
-
Локальные термоэлектрические эффекты в широкозонных полупроводниках
Физика и техника полупроводников, 51:7 (2017), 921–924
-
Comparative study of conventional and quasi-freestanding epitaxial graphenes grown on 4$H$-SiC substrate
Физика и техника полупроводников, 54:12 (2020), 1383
© , 2024