|
|
Публикации в базе данных Math-Net.Ru
-
Разработка и исследование туннельных $p$–$i$–$n$-диодов GaAs/AlGaAs для многопереходных преобразователей мощного лазерного излучения
Физика и техника полупроводников, 54:3 (2020), 285–291
-
Исследование влияния легирования на переходные слои анизотипных гетероструктур на основе GaInAsP и InP, полученных методом МОС-гидридной эпитаксии
Письма в ЖТФ, 46:19 (2020), 22–24
-
Исследование однородности состава по толщине слоев GaInAsP, полученных на подложках InP методом газофазной эпитаксии
Физика и техника полупроводников, 53:11 (2019), 1512–1518
-
Квантовый выход кремниевого XUV-лавинного фотодиода в диапазоне длин волн 320–1100 nm
Письма в ЖТФ, 45:24 (2019), 10–13
-
Люминесцентные свойства выращенных на InP слоев GaInAsP с градиентом состава по толщине
Письма в ЖТФ, 45:20 (2019), 22–25
-
Характеристики кремниевого лавинного фотодиода для ближнего ИК-диапазона
Письма в ЖТФ, 45:15 (2019), 40–42
-
Нелегированный высокоомный буферный слой GaN для HEMT AlGaN/GaN
Письма в ЖТФ, 45:15 (2019), 21–24
-
Изменение характера биаксиальных напряжений при возрастании $x$ от 0 до 0.7 в слоях Al$_{x}$Ga$_{1-x}$N:Si, полученных методом аммиачной молекулярно-лучевой эпитаксии
Физика и техника полупроводников, 52:2 (2018), 233–237
-
Подвижность двумерного электронного газа в DA-$p$HEMT гетроструктурах с различной шириной профиля $\delta$–$n$-слоев
Физика и техника полупроводников, 52:1 (2018), 48–56
-
Исследование градиента состава слоев GaInAsP, полученных на InP методом газофазной эпитаксии
Письма в ЖТФ, 44:24 (2018), 17–24
-
Влияние дозы имплантации ионов азота на концентрацию точечных дефектов, введенных в слои GaAs
Письма в ЖТФ, 44:13 (2018), 44–50
-
Подвижность двумерного электронного газа в DA-$p$HEMT гетроструктурах с различной шириной профиля $\delta$–$n$-слоев
Физика и техника полупроводников, 51:12 (2017), 1696
-
Формирование $p$-эмиттера с участием сурфактантов в GaAs фотоэлектрических преобразователях
Физика и техника полупроводников, 51:5 (2017), 699–703
-
Исследование переходных областей гетероструктур InAsPSb/InAs, полученных методом газофазной эпитаксии из металлоорганических соединений
Письма в ЖТФ, 43:19 (2017), 78–86
-
Электрохимическое литирование кремния с разной кристаллографической ориентацией
Физика и техника полупроводников, 50:7 (2016), 979–986
-
Cолнечно-слепые Al$_{x}$Ga$_{1-x}$N ($x>$ 0.45) $p$–$i$–$n$-фотодиоды с поляризационно-легированным $p$-эмиттером
Письма в ЖТФ, 42:12 (2016), 57–63
-
Полуизолирующие эпитаксиальные слои GaN : С, полученные методом газофазной эпитаксии из металлоорганических соединений с использованием пропана как источника углерода
Письма в ЖТФ, 42:10 (2016), 85–91
© , 2024