|
|
Публикации в базе данных Math-Net.Ru
-
Электрофизические характеристики многослойных мемристивных наноструктур на основе стабилизированного иттрием диоксида циркония и оксида тантала
ЖТФ, 90:2 (2020), 298–304
-
Влияние облучения ионами Si$^{+}$ на резистивное переключение мемристивных структур на основе стабилизированного диоксида циркония
Письма в ЖТФ, 45:14 (2019), 3–6
-
Влияние примеси бора на излучательные свойства дислокационных структур в кремнии, сформированных путем имплантации ионов Si$^{+}$
Физика и техника полупроводников, 52:7 (2018), 702–707
-
Имитация синаптической связи нейроноподобных генераторов с помощью мемристивного устройства
ЖТФ, 87:8 (2017), 1248–1254
-
Формирование гексагональной фазы кремния 9$R$ при ионной имплантации
Письма в ЖТФ, 43:16 (2017), 87–92
-
Изменение иммитанса при электроформовке и резистивном переключении в мемристивных структурах “металл–диэлектрик–металл” на основе SiO$_{x}$
ЖТФ, 86:5 (2016), 107–111
-
Послойный состав и структура кремния, подвергнутого совместной ионной имплантации галлия и азота для ионного синтеза GaN
Физика и техника полупроводников, 50:2 (2016), 274–278
-
Резистивное переключение в мемристивных структурах Au/SiO$_{x}$/TiN/Ti с различными геометрическими параметрами и стехиометрией диэлектрической пленки
Письма в ЖТФ, 42:10 (2016), 17–24
© , 2024