RUS  ENG
Полная версия
ПЕРСОНАЛИИ

Тимошина Наиля Харисовна

Публикации в базе данных Math-Net.Ru

  1. Фотоэлектрические преобразователи лазерного излучения ($\lambda$ = 1064 нм) на основе GaInAsP/InP

    Физика и техника полупроводников, 52:13 (2018),  1641–1646
  2. Модификация фотоэлектрических преобразователей лазерного излучения ($\lambda$ = 808 нм), получaемых методом жидкофазной эпитаксии

    Физика и техника полупроводников, 52:3 (2018),  385–389
  3. Фотоэлектрические преобразователи лазерного излучения на основе гетероструктур InP(GaAs)/InP, полученные методом жидкофазной эпитаксии

    Письма в ЖТФ, 44:18 (2018),  31–38
  4. Формирование $p$-эмиттера с участием сурфактантов в GaAs фотоэлектрических преобразователях

    Физика и техника полупроводников, 51:5 (2017),  699–703
  5. Фотоэлектрический приемник лазерного излучения ($\lambda$ = 809 нм) на основе GаAs

    Физика и техника полупроводников, 51:5 (2017),  676–679
  6. Оптимизация структурных и ростовых параметров метаморфных InGaAs-фотопреобразователей, полученных методом МОС-гидридной эпитаксии

    Физика и техника полупроводников, 51:1 (2017),  94–100
  7. Фотоэлектрические преобразователи лазерного излучения ($\lambda$ = 1550 нм) на основе GaSb: метод получения и характеристики

    Физика и техника полупроводников, 50:10 (2016),  1358–1362
  8. Фотоэлектрический преобразователь лазерного излучения на основе гетероструктуры AlGaAs/GaAs

    Физика и техника полупроводников, 50:9 (2016),  1242–1246
  9. Растекание тока в солнечных элементах: двухпараметрическая трубковая модель

    Физика и техника полупроводников, 50:7 (2016),  987–992
  10. Гетероструктуры метаморфных GaInAs-фотопреобразователей, полученные методом МОС-гидридной эпитаксии на подложках GaAs

    Физика и техника полупроводников, 50:4 (2016),  525–530


© МИАН, 2024