RUS
ENG
Полная версия
ПЕРСОНАЛИИ
Горячев Андрей Викторович
Публикации в базе данных Math-Net.Ru
Изменение структуры и свойств приповерхностного слоя Si, имплантированного Zn, в зависимости от флюенса облучения ионами
$^{132}$
Xe
$^{26+}$
с энергией 167 МэВ
Физика и техника полупроводников
,
53
:3 (2019),
332–339
Формирование преципитатов в Si, имплантированном ионами
$^{64}$
Zn
$^{+}$
и
$^{16}$
O
$^{+}$
Физика и техника полупроводников
,
52
:8 (2018),
827–835
Nanoparticle formation in Zn
$^{+}$
and O
$^{+}$
ion sequentially implanted SiO
$_{2}$
film
Физика и техника полупроводников
,
52
:5 (2018),
521
©
МИАН
, 2024