|
|
Публикации в базе данных Math-Net.Ru
-
О механизме ионно-индуцированной кристаллизации в кремнии
Физика и техника полупроводников, 26:10 (1992), 1841–1844
-
Высокотемпературная ионная имплантация мышьяка в кремний
Физика и техника полупроводников, 24:6 (1990), 1132–1133
-
Формирование скрытого слоя $\beta$-Si$_{3}$N$_{4}$
при высокоинтенсивном ионном облучении (ВИО) кремния
ЖТФ, 59:1 (1989), 200–202
-
Образование двойников и гексагональной модификации в кремнии при
облучении интенсивными пучками ионов Аr$^{+}$
ЖТФ, 58:3 (1988), 548–551
-
Остаточные дефекты в кремнии при имплантации ионов As$^{+}$
в самоотжиговом режиме
Физика и техника полупроводников, 21:10 (1987), 1863–1867
-
Исследование образования монокристаллических слоев $\beta$-SiC на Si
методом высокоинтенсивного ионного легирования (ВИЛ)
Физика и техника полупроводников, 21:5 (1987), 920–922
-
Отжиг дефектов и электрическая активация примеси в процессе
высокоинтенсивного ионного легирования кремния
Физика и техника полупроводников, 20:9 (1986), 1726–1728
-
Синтез монокристаллического карбида кремния с помощью одношаговой
техники высокоинтенсивного ионного легирования
Физика и техника полупроводников, 20:1 (1986), 149–152
-
Кристаллизация и эффект отжига макродефектов в процессе высокоинтенсивной ионной имплантации полупроводниковых кристаллов
Письма в ЖТФ, 11:18 (1985), 1110–1113
© , 2025