RUS
ENG
Полная версия
ПЕРСОНАЛИИ
Амельчук Дмитрий Геннадьевич
Публикации в базе данных Math-Net.Ru
Особенности кристаллизации промежуточного слоя кремния в процессе переноса тонкого слоя 3
C
-SiC(001) на 6
H
-SiC(0001)-подложку
Письма в ЖТФ
,
51
:4 (2025),
11–14
Взаимодействие карбида кремния с расплавом кремния, образующимся в условиях прямого сращивания эпитаксиальных структур 3
C
-SiC/Si с пластинами 6
H
-SiC
Физика и техника полупроводников
,
58
:9 (2024),
501–504
Создание темплейтов для гомоэпитаксиального роста 3
C
-SiC методом прямого сращивания пластин карбида кремния различающихся политипов
Физика и техника полупроводников
,
56
:11 (2022),
1094–1098
©
МИАН
, 2025