Публикации в базе данных Math-Net.Ru
-
Флуктуации зарядового
состояния ионов: возможная причина
увеличения
дисперсии пробегов при высокоэнергетичной ионной имплантации
Письма в ЖТФ, 17:5 (1991), 69–72
-
Численное моделирование формирования субмикронных легированных областей в полупроводниковых структурах
Матем. моделирование, 2:10 (1990), 13–25
-
Модель каналирования ионов бора
при высокоэнергетичном ионном
легировании кристаллов кремния
Письма в ЖТФ, 16:23 (1990), 4–8
-
Высокоэнергетичная ионная имплантация
ЖТФ, 58:3 (1988), 559–566
-
К вопросу об излучении при каналировании электронов с энергией 16.9, 30.5, 54.5 МэВ в алмазе
ЖТФ, 58:1 (1988), 195–197
-
Эффекты, сопутствующие каналированию ультрарелятивистских электронов
в кристаллах
ЖТФ, 56:11 (1986), 2214–2220
-
Уширение линий спонтанного излучения при плосткостном каналировании
электронов
ЖТФ, 55:11 (1985), 2184–2190
© , 2024