Публикации в базе данных Math-Net.Ru
-
Механизм формирования скрытого изображения при импульсном лазерном экспонировании позитивного вуф-резиста на основе ПММА, сенсибилизированного антраценом, и кинетика его проявления
Матем. моделирование, 1:12 (1989), 44–51
-
Метод обработки данных интерферометрического контроля растворения резистных пленок
Матем. моделирование, 1:2 (1989), 160–164
-
Наносекундная одноимпульсная лазерная литография
Письма в ЖТФ, 11:17 (1985), 1025–1030
-
Особенности использования импульсных УФ лазеров в фотолитографии
Квантовая электроника, 12:12 (1985), 2498–2501
© , 2024