|
|
Публикации в базе данных Math-Net.Ru
-
Влияние пространственной когерентности лазерного излучения на качество изображения в проекционной
системе с растровым осветителем келлеровского типа
Квантовая электроника, 17:4 (1990), 512–516
-
Исследование характеристик эксимерного лазера с узкой линией генерации
Квантовая электроника, 17:1 (1990), 43–45
-
Механизм формирования скрытого изображения при импульсном лазерном экспонировании позитивного вуф-резиста на основе ПММА, сенсибилизированного антраценом, и кинетика его проявления
Матем. моделирование, 1:12 (1989), 44–51
-
Метод обработки данных интерферометрического контроля растворения резистных пленок
Матем. моделирование, 1:2 (1989), 160–164
-
Применение металлорезинатных пленок в электронной и фотолитографии
Докл. АН СССР, 294:6 (1987), 1358–1362
-
Определение проецированного пробега ионов в полимерных резистах
ЖТФ, 57:9 (1987), 1858–1860
-
Образование пор в ПММА в процессе рентгеновского экспонирования
ЖТФ, 57:7 (1987), 1445–1448
-
Влияние ультрафиолетового облучения на водорастворимость полимерных пленок
Письма в ЖТФ, 13:24 (1987), 1473–1476
-
Траспортировка мягкого рентгеновского излучения по оптическому световоду
Письма в ЖТФ, 13:5 (1987), 257–260
-
Когерентность излучения ХеО-лазера
Квантовая электроника, 14:6 (1987), 1266–1268
-
Фототравление полимеров в условиях цепной деполимеризации макромолекул
Докл. АН СССР, 280:5 (1985), 1106–1110
-
Высоковольтная электронная литография через трафаретные шаблоны
Письма в ЖТФ, 11:17 (1985), 1048–1053
-
Наносекундная одноимпульсная лазерная литография
Письма в ЖТФ, 11:17 (1985), 1025–1030
-
Особенности использования импульсных УФ лазеров в фотолитографии
Квантовая электроника, 12:12 (1985), 2498–2501
-
Фототравление предварительно облученных полимерных пленок
Письма в ЖТФ, 10:10 (1984), 577–581
-
Дозиметрия мягкого рентгеновского излучения
и вакуумного ультрафиолета,
основанная на эффекте фототравления
ЖТФ, 53:3 (1983), 583–585
-
О проблеме адекватного феноменологического описания магнитных диэлектриков
Докл. АН СССР, 219:6 (1974), 1341–1344
© , 2024