RUS  ENG
Полная версия
ПЕРСОНАЛИИ

Великов Леонид Васильевич

Публикации в базе данных Math-Net.Ru

  1. Влияние пространственной когерентности лазерного излучения на качество изображения в проекционной системе с растровым осветителем келлеровского типа

    Квантовая электроника, 17:4 (1990),  512–516
  2. Исследование характеристик эксимерного лазера с узкой линией генерации

    Квантовая электроника, 17:1 (1990),  43–45
  3. Механизм формирования скрытого изображения при импульсном лазерном экспонировании позитивного вуф-резиста на основе ПММА, сенсибилизированного антраценом, и кинетика его проявления

    Матем. моделирование, 1:12 (1989),  44–51
  4. Метод обработки данных интерферометрического контроля растворения резистных пленок

    Матем. моделирование, 1:2 (1989),  160–164
  5. Применение металлорезинатных пленок в электронной и фотолитографии

    Докл. АН СССР, 294:6 (1987),  1358–1362
  6. Определение проецированного пробега ионов в полимерных резистах

    ЖТФ, 57:9 (1987),  1858–1860
  7. Образование пор в ПММА в процессе рентгеновского экспонирования

    ЖТФ, 57:7 (1987),  1445–1448
  8. Влияние ультрафиолетового облучения на водорастворимость полимерных пленок

    Письма в ЖТФ, 13:24 (1987),  1473–1476
  9. Траспортировка мягкого рентгеновского излучения по оптическому световоду

    Письма в ЖТФ, 13:5 (1987),  257–260
  10. Когерентность излучения ХеО-лазера

    Квантовая электроника, 14:6 (1987),  1266–1268
  11. Фототравление полимеров в условиях цепной деполимеризации макромолекул

    Докл. АН СССР, 280:5 (1985),  1106–1110
  12. Высоковольтная электронная литография через трафаретные шаблоны

    Письма в ЖТФ, 11:17 (1985),  1048–1053
  13. Наносекундная одноимпульсная лазерная литография

    Письма в ЖТФ, 11:17 (1985),  1025–1030
  14. Особенности использования импульсных УФ лазеров в фотолитографии

    Квантовая электроника, 12:12 (1985),  2498–2501
  15. Фототравление предварительно облученных полимерных пленок

    Письма в ЖТФ, 10:10 (1984),  577–581
  16. Дозиметрия мягкого рентгеновского излучения и вакуумного ультрафиолета, основанная на эффекте фототравления

    ЖТФ, 53:3 (1983),  583–585
  17. О проблеме адекватного феноменологического описания магнитных диэлектриков

    Докл. АН СССР, 219:6 (1974),  1341–1344


© МИАН, 2024