Полковников Владимир Николаевич

Публикации в базе данных Math-Net.Ru

1. Изготовление и исследование зеркал с широкой полосой пропускания для синхротронных применений
   
   ЖТФ, 91:10 (2021),  1524–1531
2. Измерения абсолютных значений интенсивности излучения в диапазоне длин волн 6.6–32 nm мишени из нержавеющей стали при импульсном лазерном возбуждении
   
   ЖТФ, 91:10 (2021),  1448–1453
3. Солнечный телескоп вакуумного ультрафиолетового диапазона для наноспутников
   
   ЖТФ, 91:10 (2021),  1441–1447
4. Измерения абсолютных интенсивностей спектральных линий ионов Kr, Ar и O в диапазоне длин волн 10–18 нм при импульсном лазерном возбуждении
   
   Квантовая электроника, 51:8 (2021),  700–707
5. Многослойные зеркала Cr/Sc с улучшенным отражением для диапазона “окна прозрачности воды”
   
   ЖТФ, 90:11 (2020),  1893–1897
6. Микроструктура переходных границ в многослойных Мо/Ве-системах
   
   ЖТФ, 90:11 (2020),  1884–1892
7. Широкополосные зеркала для спектрогелиографов солнечной обсерватории “КОРТЕС”
   
   ЖТФ, 90:11 (2020),  1876–1883
8. Сглаживающий эффект Si-слоев в многослойных зеркалах Be/Al для спектрального диапазона 17–31 nm
   
   ЖТФ, 90:11 (2020),  1870–1875
9. Модификация и полировка штриха голографической дифракционной решетки пучком нейтрализованных ионов Ar
   
   ЖТФ, 90:11 (2020),  1864–1869
10. Применение новых типов многослойных зеркал нормального падения для целей солнечной спектроскопии вакуумного ультрафиолетового диапазона
    
    ЖТФ, 90:11 (2020),  1817–1820
11. Эффективность генерации излучения в полосе 8–14 нм ионами криптона при импульсном лазерном возбуждении
    
    Квантовая электроника, 50:4 (2020),  408–413
12. Особенности применения многослойных зеркал для фокусировки и коллимации рентгеновского излучения источников на основе обратного комптоновского рассеяния
    
    Квантовая электроника, 50:4 (2020),  401–407
13. Рентгеновская оптика дифракционного качества: технология, метрология, применения
    
    УФН, 190:1 (2020),  74–91
14. Влияние термического отжига на свойства многослойных зеркал Mo/Be
    
    ЖТФ, 89:11 (2019),  1783–1788
15. Влияние барьерных слоев бериллия на свойства многослойных зеркал Mo/Si
    
    ЖТФ, 89:11 (2019),  1779–1782
16. Многослойные зеркала Ag/Y для спектрального диапазона 9–11 nm
    
    ЖТФ, 89:11 (2019),  1774–1778
17. Оптимизация состава, синтез и изучение широкополосных многослойных зеркал для ЭУФ диапазона
    
    ЖТФ, 89:11 (2019),  1763–1769
18. Бериллий как материал для термостойких рентгеновских зеркал
    
    ЖТФ, 89:11 (2019),  1686–1691
19. Стабильные многослойные отражающие покрытия на длину волны $\lambda$(HeI) = 58.4 nm для солнечного телескопа проекта КОРТЕС
    
    Письма в ЖТФ, 45:3 (2019),  26–29
20. Сравнение подходов в изготовлении широкополосных зеркал для ЭУФ диапазона: апериодические и стековые структуры
    
    Квантовая электроника, 49:4 (2019),  380–385
21. Абсолютно калиброванные спектрально разрешенные измерения интенсивности излучения Xe лазерной плазмы в дальнем ультрафиолетовом диапазоне
    
    ЖТФ, 88:10 (2018),  1554–1558
22. Лабораторный рефлектометр для исследования оптических элементов в диапазоне длин волн 5 – 50 нм: описание и результаты тестирования
    
    Квантовая электроника, 47:4 (2017),  385–392
23. Влияние структурных дефектов апериодических многослойных зеркал на свойства отраженных (суб)фемтосекундных импульсов
    
    Квантовая электроника, 47:4 (2017),  378–384
24. Повышение дифракционной эффективности решеток-эшелеттов за счет полировки поверхности штриха ионно-пучковым травлением
    
    Письма в ЖТФ, 42:16 (2016),  34–40
25. Влияние шероховатостей, детерминированных и случайных ошибок в толщинах пленок на отражательные характеристики апериодических зеркал для ЭУФ диапазона
    
    Квантовая электроника, 46:5 (2016),  406–413
26. Рентгенооптическая система для получения изображения лазерного факела с пространственным разрешением до 70 нм
    
    Квантовая электроника, 46:4 (2016),  347–352
27. Кремниевый фотодиод для экстремального ультрафиолетового диапазона спектра с селективным Zr/Si-покрытием
    
    Квантовая электроника, 42:10 (2012),  943–948


28. Многослойная рентгеновская оптика на основе бериллия
    
    УФН, 190:1 (2020),  92–106