|
|
Публикации в базе данных Math-Net.Ru
-
Спектры поглощения и механические свойства C : F-нанопокрытий, осажденных из лазерной плазмы на поверхность лейкосапфира
Квантовая электроника, 52:4 (2022), 376–381
-
Синтез фторуглеродных нанопленок на титане с помощью излучения мощного KrF-лазера
Квантовая электроника, 50:12 (2020), 1173–1178
-
Свойства полиимидной пленки после облучения электронным пучком с дозой 1 GGy
Оптика и спектроскопия, 126:3 (2019), 280–284
-
Образование углеродной нанопленки на стекле КУ-1 при отжиге на нем масла излучением KrF-лазера
Квантовая электроника, 48:2 (2018), 136–144
-
Отжиг наведенного поглощения в кварцевых стеклах излучением ArF-лазера
Квантовая электроника, 40:9 (2010), 804–810
-
Индивидуальные полосы наведенного поглощения в MgF2
Квантовая электроника, 38:3 (2008), 251–257
-
Влияние излучения KrF-лазера на наведенное электронным пучком поглощение в флюорите и кварцевых стеклах
Квантовая электроника, 37:8 (2007), 711–715
-
Радиационная стойкость оптических материалов для окон эксимерных лазеров УФ и ВУФ диапазонов
Квантовая электроника, 37:8 (2007), 706–710
-
Нелинейное поглощение оптических материалов на длине волны 193 нм
Квантовая электроника, 34:2 (2004), 147–150
-
Механизмы нелинейного поглощения в CaF2 УФ лазерного излучения
Квантовая электроника, 32:4 (2002), 344–348
-
Моделирование процессов, обуславливающих нелинейное поглощение УФ лазерного излучения в ионных кристаллах
Квантовая электроника, 30:8 (2000), 703–709
-
Нелинейное поглощение и лучевая прочность BaF2 и Al2O3 на длине волны 248 нм
Квантовая электроника, 29:2 (1999), 141–144
-
Наведенное электронным пучком поглощение излучения ArF-, KrF- и XeF-лазеров в оптических материалах
Квантовая электроника, 22:7 (1995), 745–748
-
Оптический пробой кварцевого стекла излучением XeF-лазера
Квантовая электроника, 21:4 (1994), 329–332
-
Наведенное электронным пучком поглощение лазерного излучения на λ = 193, 248 и 353 нм в кварцевом стекле
Квантовая электроника, 20:11 (1993), 1077–1080
-
Наведенное ионизирующим излучением поглощение в окнах KrF-лазера
Квантовая электроника, 18:11 (1991), 1364–1366
-
Оптический пробой фтористых кристаллов излучением KrF-лазера с λ = 248 нм
Квантовая электроника, 16:6 (1989), 1238–1240
-
Работа электронно-пучкового KrF-лазера в режиме высоких удельных мощностей и энергий возбуждения
Квантовая электроника, 15:2 (1988), 276–282
-
Лучевая прочность поверхности оптических материалов и зеркал на длинах волн 248 и 193 нм
Квантовая электроника, 13:10 (1986), 2141–2144
-
Электронно-пучковый ArF-лазер
Квантовая электроника, 13:8 (1986), 1730–1733
-
Электронно-пучковый XeCl-лазер с удельным энергосъемом 20 Дж/л
Квантовая электроника, 12:8 (1985), 1607–1611
-
Исследование лазеров на красителях с возбуждением излучением мощного KrF-лазера
Квантовая электроника, 11:7 (1984), 1389–1393
-
Высокоэффективный эксимерный KrF-лазер с электронно-пучковым возбуждением
Квантовая электроника, 10:10 (1983), 2048–2053
-
XeF*-лазер видимого диапазона с селективным оптическим возбуждением
Квантовая электроника, 10:3 (1983), 647–649
-
KrF-лазер с электронно-пучковым возбуждением при удельной мощности накачки 1,6 ГВт/(л·атм)
Квантовая электроника, 8:6 (1981), 1235–1240
© , 2024