RUS  ENG
Полная версия
ПЕРСОНАЛИИ

Сергеев Павел Борисович

Публикации в базе данных Math-Net.Ru

  1. Спектры поглощения и механические свойства C : F-нанопокрытий, осажденных из лазерной плазмы на поверхность лейкосапфира

    Квантовая электроника, 52:4 (2022),  376–381
  2. Синтез фторуглеродных нанопленок на титане с помощью излучения мощного KrF-лазера

    Квантовая электроника, 50:12 (2020),  1173–1178
  3. Свойства полиимидной пленки после облучения электронным пучком с дозой 1 GGy

    Оптика и спектроскопия, 126:3 (2019),  280–284
  4. Образование углеродной нанопленки на стекле КУ-1 при отжиге на нем масла излучением KrF-лазера

    Квантовая электроника, 48:2 (2018),  136–144
  5. Отжиг наведенного поглощения в кварцевых стеклах излучением ArF-лазера

    Квантовая электроника, 40:9 (2010),  804–810
  6. Индивидуальные полосы наведенного поглощения в MgF2

    Квантовая электроника, 38:3 (2008),  251–257
  7. Влияние излучения KrF-лазера на наведенное электронным пучком поглощение в флюорите и кварцевых стеклах

    Квантовая электроника, 37:8 (2007),  711–715
  8. Радиационная стойкость оптических материалов для окон эксимерных лазеров УФ и ВУФ диапазонов

    Квантовая электроника, 37:8 (2007),  706–710
  9. Нелинейное поглощение оптических материалов на длине волны 193 нм

    Квантовая электроника, 34:2 (2004),  147–150
  10. Механизмы нелинейного поглощения в CaF2 УФ лазерного излучения

    Квантовая электроника, 32:4 (2002),  344–348
  11. Моделирование процессов, обуславливающих нелинейное поглощение УФ лазерного излучения в ионных кристаллах

    Квантовая электроника, 30:8 (2000),  703–709
  12. Нелинейное поглощение и лучевая прочность BaF2 и Al2O3 на длине волны 248 нм

    Квантовая электроника, 29:2 (1999),  141–144
  13. Наведенное электронным пучком поглощение излучения ArF-, KrF- и XeF-лазеров в оптических материалах

    Квантовая электроника, 22:7 (1995),  745–748
  14. Оптический пробой кварцевого стекла излучением XeF-лазера

    Квантовая электроника, 21:4 (1994),  329–332
  15. Наведенное электронным пучком поглощение лазерного излучения на λ = 193, 248 и 353 нм в кварцевом стекле

    Квантовая электроника, 20:11 (1993),  1077–1080
  16. Наведенное ионизирующим излучением поглощение в окнах KrF-лазера

    Квантовая электроника, 18:11 (1991),  1364–1366
  17. Оптический пробой фтористых кристаллов излучением KrF-лазера с λ = 248 нм

    Квантовая электроника, 16:6 (1989),  1238–1240
  18. Работа электронно-пучкового KrF-лазера в режиме высоких удельных мощностей и энергий возбуждения

    Квантовая электроника, 15:2 (1988),  276–282
  19. Лучевая прочность поверхности оптических материалов и зеркал на длинах волн 248 и 193 нм

    Квантовая электроника, 13:10 (1986),  2141–2144
  20. Электронно-пучковый ArF-лазер

    Квантовая электроника, 13:8 (1986),  1730–1733
  21. Электронно-пучковый XeCl-лазер с удельным энергосъемом 20 Дж/л

    Квантовая электроника, 12:8 (1985),  1607–1611
  22. Исследование лазеров на красителях с возбуждением излучением мощного KrF-лазера

    Квантовая электроника, 11:7 (1984),  1389–1393
  23. Высокоэффективный эксимерный KrF-лазер с электронно-пучковым возбуждением

    Квантовая электроника, 10:10 (1983),  2048–2053
  24. XeF*-лазер видимого диапазона с селективным оптическим возбуждением

    Квантовая электроника, 10:3 (1983),  647–649
  25. KrF-лазер с электронно-пучковым возбуждением при удельной мощности накачки 1,6 ГВт/(л·атм)

    Квантовая электроника, 8:6 (1981),  1235–1240


© МИАН, 2024