|
|
Публикации в базе данных Math-Net.Ru
-
Исследование условий СВС интерметаллидов при селективном лазерном спекании порошковых композиций
Физика горения и взрыва, 35:2 (1999), 59–64
-
Физические особенности селективного лазерного спекания порошковых металл-полимерных композиций
Квантовая электроника, 25:5 (1998), 433–438
-
Колебательное возбуждение молекул НF и инициирование H2 — F2-генератора многолинейчатым излучением фторводородного лазера
Квантовая электроника, 25:5 (1998), 401–404
-
Упрощенный расчет средней энергии и дрейфовой скорости электронов плазмы разряда в смесях газов, используемых в $\mathrm{CO}_2$-лазере
ТВТ, 36:1 (1998), 21–24
-
Электроионизационный СО-лазер с накачкой формирующей LC-линией на двухквантовых переходах молекулы СО
Квантовая электроника, 24:11 (1997), 991–992
-
Формирование и экспериментальное исследование газодисперсной среды импульсного химического H2 — F2-лазера, инициируемого ИК излучением
Квантовая электроника, 24:11 (1997), 983–986
-
Спектр излучения импульсного электроионизационного CО-лазера с питанием от формирующей LC-линии.
Квантовая электроника, 24:3 (1997), 206–208
-
Динамика плазмы приповерхностного оптического разряда в парах металла в луче непрерывного СО2-лазера
Квантовая электроника, 22:2 (1995), 145–149
-
Влияние индуцируемых лазером капиллярных волн на тепло- и массоперенос при лазерно-дуговой обработке металлов
Квантовая электроника, 21:5 (1994), 486–490
-
Использование формирующей LC-линии для питания разряда в импульсном электроионизационном СО-лазере
Квантовая электроника, 21:5 (1994), 467–470
-
Расчет энергии электронов в плазме разряда импульсного электроионизационного СО-лазера на основе анализа временных характеристик его излучения
Квантовая электроника, 21:5 (1994), 429–432
-
Массоперенос в расплаве при лазерно-дуговом воздействии
Квантовая электроника, 19:8 (1992), 813–815
-
Динамика плазмы пробоя паров при облучении металлов излучением непрерывного СО2-лазера
Квантовая электроника, 18:10 (1991), 1229–1230
-
Каплеобразование с поверхности расплава при возбуждении капиллярных волн лазерным облучением
Квантовая электроника, 18:6 (1991), 708–709
-
Гидродинамические процессы в ванне расплава при лазерно-дуговом воздействии
Квантовая электроника, 18:6 (1991), 699–703
-
Эмиссия заряженных частиц с поверхности движущейся мишени при воздействии излучения непрерывного CO2-лазера
Квантовая электроника, 17:6 (1990), 744–750
-
Электроразрядный CO2-лазер с вихревым потоком газа
Квантовая электроника, 17:5 (1990), 537–543
-
Исследование импульсного химического кислородно-йодного лазера
Квантовая электроника, 16:8 (1989), 1587–1592
-
Релаксация энергозапаса кислородно-йодной активной среды со связанным йодом
Квантовая электроника, 15:10 (1988), 2078–2086
-
Особенности структурно-фазовых превращений в высоколегированных сталях при лазерной термообработке
Квантовая электроника, 14:12 (1987), 2543–2549
-
Лазерно-дуговое воздействие на металлы
Квантовая электроника, 14:11 (1987), 2312–2313
-
Оптимизация энергетических характеристик кислородно-йодного лазера
Квантовая электроника, 14:9 (1987), 1807–1809
-
Просветляющийся фильтр на основе дитиена для йодного лазера
Квантовая электроника, 11:1 (1984), 115–119
-
Выравнивание распределения плотности энергии по сечению пучка твердотельной лазерной технологической установки
Квантовая электроника, 9:4 (1982), 815–817
-
К вопросу о регенерации рабочей смеси йодного лазера с накачкой излучением открытого разряда
Квантовая электроника, 9:2 (1982), 368–370
-
Самопоглощение рентгеновских спектральных линий в расширяющейся лазерной плазме
Квантовая электроника, 8:1 (1981), 28–35
-
Исследование характеристик новых составов для пассивных затворов йодных лазеров
Квантовая электроника, 6:12 (1979), 2652–2653
-
Йодный лазер с повторным использованием регенерированной смеси
Квантовая электроника, 6:7 (1979), 1495–1499
-
Исследование физических параметров йодного усилителя с накачкой излучением открытого сильноточного разряда
Квантовая электроника, 6:2 (1979), 311–316
-
Исследование характеристик каскадов предварительного усиления йодного лазера коротких импульсов
Квантовая электроника, 6:2 (1979), 304–310
-
Наносекундный йодный лазер с энергией 200 Дж
Квантовая электроника, 3:8 (1976), 1829–1831
-
Йодный лазер с активным включением добротности
Квантовая электроника, 3:2 (1976), 386–392
-
Просветляющийся фильтр для йодного лазера на длину волны 1,315 мкм
Квантовая электроника, 2:11 (1975), 2531–2532
-
Усилитель для йодного лазера коротких импульсов с запасенной энергией более 700 Дж
Квантовая электроника, 2:1 (1975), 197–198
-
Йодный лазер коротких импульсов с энергией 50 дж и длительностью 5 нсек
Квантовая электроника, 1973, № 6(18), 116
-
Памяти Николая Геннадиевича Басова
Квантовая электроника, 31:8 (2001), 751
© , 2025