RUS  ENG
Полная версия
ПЕРСОНАЛИИ

Петров Алексей Леонтьевич

Публикации в базе данных Math-Net.Ru

  1. Исследование условий СВС интерметаллидов при селективном лазерном спекании порошковых композиций

    Физика горения и взрыва, 35:2 (1999),  59–64
  2. Физические особенности селективного лазерного спекания порошковых металл-полимерных композиций

    Квантовая электроника, 25:5 (1998),  433–438
  3. Колебательное возбуждение молекул НF и инициирование H2 — F2-генератора многолинейчатым излучением фторводородного лазера

    Квантовая электроника, 25:5 (1998),  401–404
  4. Упрощенный расчет средней энергии и дрейфовой скорости электронов плазмы разряда в смесях газов, используемых в $\mathrm{CO}_2$-лазере

    ТВТ, 36:1 (1998),  21–24
  5. Электроионизационный СО-лазер с накачкой формирующей LC-линией на двухквантовых переходах молекулы СО

    Квантовая электроника, 24:11 (1997),  991–992
  6. Формирование и экспериментальное исследование газодисперсной среды импульсного химического H2 — F2-лазера, инициируемого ИК излучением

    Квантовая электроника, 24:11 (1997),  983–986
  7. Спектр излучения импульсного электроионизационного CО-лазера с питанием от формирующей LC-линии.

    Квантовая электроника, 24:3 (1997),  206–208
  8. Динамика плазмы приповерхностного оптического разряда в парах металла в луче непрерывного СО2-лазера

    Квантовая электроника, 22:2 (1995),  145–149
  9. Влияние индуцируемых лазером капиллярных волн на тепло- и массоперенос при лазерно-дуговой обработке металлов

    Квантовая электроника, 21:5 (1994),  486–490
  10. Использование формирующей LC-линии для питания разряда в импульсном электроионизационном СО-лазере

    Квантовая электроника, 21:5 (1994),  467–470
  11. Расчет энергии электронов в плазме разряда импульсного электроионизационного СО-лазера на основе анализа временных характеристик его излучения

    Квантовая электроника, 21:5 (1994),  429–432
  12. Массоперенос в расплаве при лазерно-дуговом воздействии

    Квантовая электроника, 19:8 (1992),  813–815
  13. Динамика плазмы пробоя паров при облучении металлов излучением непрерывного СО2-лазера

    Квантовая электроника, 18:10 (1991),  1229–1230
  14. Каплеобразование с поверхности расплава при возбуждении капиллярных волн лазерным облучением

    Квантовая электроника, 18:6 (1991),  708–709
  15. Гидродинамические процессы в ванне расплава при лазерно-дуговом воздействии

    Квантовая электроника, 18:6 (1991),  699–703
  16. Эмиссия заряженных частиц с поверхности движущейся мишени при воздействии излучения непрерывного CO2-лазера

    Квантовая электроника, 17:6 (1990),  744–750
  17. Электроразрядный CO2-лазер с вихревым потоком газа

    Квантовая электроника, 17:5 (1990),  537–543
  18. Исследование импульсного химического кислородно-йодного лазера

    Квантовая электроника, 16:8 (1989),  1587–1592
  19. Релаксация энергозапаса кислородно-йодной активной среды со связанным йодом

    Квантовая электроника, 15:10 (1988),  2078–2086
  20. Особенности структурно-фазовых превращений в высоколегированных сталях при лазерной термообработке

    Квантовая электроника, 14:12 (1987),  2543–2549
  21. Лазерно-дуговое воздействие на металлы

    Квантовая электроника, 14:11 (1987),  2312–2313
  22. Оптимизация энергетических характеристик кислородно-йодного лазера

    Квантовая электроника, 14:9 (1987),  1807–1809
  23. Просветляющийся фильтр на основе дитиена для йодного лазера

    Квантовая электроника, 11:1 (1984),  115–119
  24. Выравнивание распределения плотности энергии по сечению пучка твердотельной лазерной технологической установки

    Квантовая электроника, 9:4 (1982),  815–817
  25. К вопросу о регенерации рабочей смеси йодного лазера с накачкой излучением открытого разряда

    Квантовая электроника, 9:2 (1982),  368–370
  26. Самопоглощение рентгеновских спектральных линий в расширяющейся лазерной плазме

    Квантовая электроника, 8:1 (1981),  28–35
  27. Исследование характеристик новых составов для пассивных затворов йодных лазеров

    Квантовая электроника, 6:12 (1979),  2652–2653
  28. Йодный лазер с повторным использованием регенерированной смеси

    Квантовая электроника, 6:7 (1979),  1495–1499
  29. Исследование физических параметров йодного усилителя с накачкой излучением открытого сильноточного разряда

    Квантовая электроника, 6:2 (1979),  311–316
  30. Исследование характеристик каскадов предварительного усиления йодного лазера коротких импульсов

    Квантовая электроника, 6:2 (1979),  304–310
  31. Наносекундный йодный лазер с энергией 200 Дж

    Квантовая электроника, 3:8 (1976),  1829–1831
  32. Йодный лазер с активным включением добротности

    Квантовая электроника, 3:2 (1976),  386–392
  33. Просветляющийся фильтр для йодного лазера на длину волны 1,315 мкм

    Квантовая электроника, 2:11 (1975),  2531–2532
  34. Усилитель для йодного лазера коротких импульсов с запасенной энергией более 700 Дж

    Квантовая электроника, 2:1 (1975),  197–198
  35. Йодный лазер коротких импульсов с энергией 50 дж и длительностью 5 нсек

    Квантовая электроника, 1973, № 6(18),  116

  36. Памяти Николая Геннадиевича Басова

    Квантовая электроника, 31:8 (2001),  751


© МИАН, 2025