|
|
Публикации в базе данных Math-Net.Ru
-
Линейки мощных полупроводниковых лазеров, изготовленных методом
молекулярно-лучевой эпитаксии
Письма в ЖТФ, 17:7 (1991), 31–34
-
Система диодной накачки АИГ${-}$Nd$^{3+}$
на основе InGaAsP/GaAs структур
($\text{Р}_{1.06}=320$ мВт, кпд 12%)
Письма в ЖТФ, 15:24 (1989), 15–21
-
Спектральные характеристики
InGAAsP/GaAs $\langle111\rangle$
ЖФЭ-лазеров ($\lambda=0.8$ мкм), предназначенных
для накачки YAG : Nd$^{3+}$
Письма в ЖТФ, 15:15 (1989), 45–49
-
Гранатовый чип-лазер с накачкой InGaAsP/GaAs-лазером
Квантовая электроника, 16:12 (1989), 2423–2425
-
Квантово-размерные лазерные AlGaAs/GaAs-гетероструктуры, полученные
МОС гидридным методом. Квантовый выход люминесценции и пороги генерации
Физика и техника полупроводников, 22:12 (1988), 2111–2117
-
Квантово-размерные
InGaAsP/GaAs (${\lambda=0.86\div0.78}$ мкм) лазеры раздельного ограничения
(${J_{\text{п}}=100\,\text{А/см}^{2}}$, КПД${}=59$%)
Физика и техника полупроводников, 22:6 (1988), 1031–1034
-
Свойства эпитаксиальных слоев арсенида галлия, легированных
редкоземельными элементами
Физика и техника полупроводников, 22:1 (1988), 147–150
-
Мощный непрерывный
InGaAsP/GaAs гетеролазер
с диэлектрическим зеркалом
($I_{\text{nop}}=100\,\text{А/см}^{2}$, $P=1.1$ Вт, КПД = 66%,
$T=10^{\circ}$С)
Письма в ЖТФ, 14:8 (1988), 699–702
-
Непрерывный $In\,Ga\,As\,P/In\,P$ ($\lambda=1.3$ мкм) лазер раздельного ограничения с мощностью 270 мВт ($T=20^{\circ}$C, $I=900$ мА, внешнее диэлектрическое зеркало)
Письма в ЖТФ, 13:9 (1987), 552–557
-
Мощные $In\,Ga\,As\,P/In\,P$ РО лазеры для ВОЛС ($\lambda=1,55$ мкм; $T=300$ K; $P=50$ мВт)
Письма в ЖТФ, 13:9 (1987), 535–537
-
Видимые $In\,Ga\,As\,P/Ga\,As\,P$ РО ДГ лазеры, изготовленные методом жидкостной эпитаксии
($\lambda=0.65\div0.67$ мкм, $I_n=3\div0.8\,\text{кА}/\text{см}^{2}$; $P=5$ мВт, $\lambda=0.665$ мкм, $T=300$ K)
Письма в ЖТФ, 13:6 (1987), 372–374
© , 2024