Настас Андриан Михайлович

Публикации в базе данных Math-Net.Ru

1. Влияние поля коронного разряда на формирование голографических дифракционных решеток в пленках As$_{40}$S$_{60-x}$Se$_x$
   
   ЖТФ, 93:5 (2023),  696–701
2. Влияние коронного разряда на оптические свойства тонкопленочных структур Cu–As$_{2}$Se$_{3}$
   
   Оптика и спектроскопия, 128:2 (2020),  236–240
3. Исследования стабильности тонкопленочных структур Cu–As$_{2}$S$_{3}$ и Ag–As$_{2}$S$_{3}$
   
   ЖТФ, 89:8 (2019),  1254–1258
4. Влияние коронного разряда на формирование голографических дифракционных решеток в тонкопленочной структуре Cu–As$_{2}$Se$_{3}$
   
   ЖТФ, 87:9 (2017),  1395–1398
5. Исследование влияния глубины рельефа на дифракционную эффективность отражающей и пропускающей рельефно-фазовых дифракционных решеток
   
   ЖТФ, 85:7 (2015),  133–134
6. Исследование влияния зарядки халькогенидных стеклообразных полупроводников в коронном разряде на образование наложенных голографических дифракционных решеток
   
   ЖТФ, 85:3 (2015),  148–150
7. Исследование влияния показателя преломления окружающей среды на дифракционную эффективность отражающей и рельефно-фазовой дифракционных решеток
   
   ЖТФ, 85:3 (2015),  146–147
8. Исследование влияния коронного разряда на запись голографических дифракционных решеток в структуре Cu–As$_2$S$_3$
   
   Письма в ЖТФ, 40:9 (2014),  80–85
9. Влияние зарядки халькогенидных стеклообразных полупроводников в коронном разряде на процессы образования голографических дифракционных решеток
   
   ЖТФ, 79:2 (2009),  139–142
10. Регистрация двухэкспозиционных интерферограмм на фототермопластическом носителе в фототермопластическом и фотоиндуцированном режимах записи
    
    Письма в ЖТФ, 35:8 (2009),  62–66
11. Исследование влияния электрического поля на фотоиндуцированные изменения оптических свойств халькогенидных стеклообразных полупроводников
    
    Письма в ЖТФ, 32:1 (2006),  89–94