RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Физика твердого тела // Архив

Физика твердого тела, 2024, том 66, выпуск 11, страницы 2013–2017 (Mi ftt10493)

Физика поверхности, тонкие пленки

Образование поверхностного оксида при адсорбции кислорода молекулярным и атомным потоками на W(100)

Е. В. Рутьков, Е. Ю. Афанасьева, Н. Р. Галль

Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, Санкт-Петербург, Роcсия

Аннотация: Изучены адсорбционно-десорбционные процессы с участием кислорода на поверхности W(100) и образование поверхностного окисла. Показано, что адсорбция кислорода в виде молекул O$_2$ при 1300–1400 K приводит к формированию кислород дефицитного поверхностного окисла со стехиометрией WO$_{0.9}$, при этом растворение кислорода в объеме вольфрама не наблюдается. При использовании смешанной адсорбции, включающей как молекулы O$_2$, так и атомы О, образуется поверхностный оксид со стехиометрией WO, после образования которого атомы кислорода растворяются в объеме металла с формированием твердого раствора. Растворенный в объеме кислород увеличивает термическую стабильность поверхностного оксида за счет подпитки кислородом, выходящим на поверхность. Сделанные оценки показывают, что энергия активации десорбции кислорода с W(100) меняется от $E_d\approx$ 4.7 eV для $\theta_\mathrm{O}\approx$ 1; до $E_d$ = 6.0 eV для $\theta_\mathrm{O}\ll$ 1.

Ключевые слова: вольфрам, поверхностный окисел, адсорбция, десорбция.

Поступила в редакцию: 12.09.2024
Исправленный вариант: 11.10.2024
Принята в печать: 12.10.2024

DOI: 10.61011/FTT.2024.11.59341.237



Реферативные базы данных:


© МИАН, 2025