Аннотация:
Методом реактивного осаждения Fe в атмосфере кислорода на окисленной поверхности подложки кремния Si(001) выращены пленки магнетита (Fe$_3$O$_4$) толщиной 75 nm. Рост пленок оксида железа проводился при разных значениях давления O$_2$. Структура пленок контролировалась в процессе их роста методом дифракции быстрых электронов на отражение. Установлено, что только в определенном диапазоне давлений O$_2$ наблюдается рост пленок магнетита с текстурой. Уменьшение давления кислорода приводит к росту пленки Fe$_3$O$_4$ без текстуры, тогда как реактивное осаждение при значениях давления выше верхней границы указанного диапазона приводит к формированию кристаллитов гематита ($\alpha$-Fe$_2$O$_3$) в пленке Fe$_3$O$_4$.