RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Физика твердого тела // Архив

Физика твердого тела, 2025, том 67, выпуск 6, страницы 970–977 (Mi ftt11756)

Диэлектрики

Сравнительное исследование кристаллической структуры тонких пленок стехиометрических и нестехиометрических оксидов титана

А. К. Маркелова, Д. А. Калмыков, В. А. Воронковский, В. Ш. Алиев, В. И. Вдовин, А. К. Гутаковский

Институт физики полупроводников им. А. В. Ржанова СО РАН, Новосибирск, Россия

Аннотация: Исследована кристаллическая структура тонких пленок стехиометрического (TiO$_2$) и нестехиометрического (TiO$_{2-\delta}$, $\delta$ = 0.9) состава, синтезированных методом ионно-лучевого распыления-осаждения и отожженных при температурах 723–973 K в атмосфере аргона. Установлено, что пленки стехиометрического состава кристаллизуются по механизму дендритного роста на начальном этапе. После разрастания дендритов до их взаимодействий друг с другом наблюдается слоевой рост с образованием пластинчатых кристаллов. Пленки нестехиометрического состава кристаллизуются по механизму островкового роста. Для дендритного роста определена энергия активации движения фронта кристаллизации, которая составила 2.3 eV. Пленки TiO$_2$ состояли из пластинчатых кристаллов рутиловой фазы с включениями нанокристаллов анатаза. Пленки TiO$_{2-\delta}$ были многофазными и состояли из нанокристаллов анатаза, рутила, $\alpha$-Ti$_3$O$_5$, а также металлического $\alpha$-Ti.

Ключевые слова: тонкие пленки, оксиды титана, ионно-лучевое распыление-осаждение, кристаллизация, ВРЭМ, СЭМ.

Поступила в редакцию: 06.06.2025
Исправленный вариант: 20.06.2025
Принята в печать: 22.06.2025

DOI: 10.61011/FTT.2025.06.60943.158-25



Реферативные базы данных:


© МИАН, 2025