Влияние поливалентных ионов металла на процессы создания радиационных дефектов в кристаллах LiF

Исследованы инициированные ионизирующей радиацией процессы создания собственных и активаторных дефектов в кристаллах LiF, активированных окислами различных металлов (Li, W, Fe, Ti). Предложен механизм влияния кислородной примеси на накопление электронных центров окраски в рамках представлений о самоорганизации дорадиационной дефектности в виде нанодефектных конгломератов в области поливалентных катионов.