RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Физика твердого тела // Архив

Физика твердого тела, 2013, том 55, выпуск 9, страницы 1671–1676 (Mi ftt12531)

Эта публикация цитируется в 2 статьях

Металлы

Теплопроводность и удельное электросопротивление объемного индия и индия, наноструктурированного в каналах пористого боросиликатного стекла

Ю. А. Кумзеровa, А. В. Фокинa, Л. С. Парфеньеваa, Б. И. Смирновa, И. А. Смирновa, H. Misiorekb, A. Jezowskib

a Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, г. Санкт-Петербург
b Trzebiatowski Institute of Low Temperature and Structure Research, Polish Academy of Sciences, Wroclaw, Poland

Аннотация: Приготовлен нанокомпозит “пористое стекло + индий”. В интервале температур 5–300 K измерены его теплопроводность $\varkappa(T)$ и удельная электропроводность $\rho(T)$, а также определены их доли, приходящиеся на наноиндий, расположенный в каналах пористого стекла диаметром 7 nm. Для сравнения в том же интервале температур измерены $\varkappa$ и $\rho$ объемного поликристаллического образца индия. Для наноиндия и объемного In проведен расчет электронных и фононных составляющих теплопроводности. Показано, что из-за появления в наноиндии граничного рассеяния электронов и фононов величина $\rho$ для него становится больше, а значение фононной теплопроводности меньше, чем у объемного In.

Поступила в редакцию: 06.03.2013


 Англоязычная версия: Physics of the Solid State, 2013, 55:9, 1779–1785

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2025