Вытеснение атомов цезия, адсорбированных на поверхности вольфрама, атомами бария и тулия

Исследовано вытеснение атомов цезия, адсорбированных на поверхности вольфрама, атомами бария и тулия. Показано, что при субмонослойных покрытиях вытеснение атомов Cs обусловлено в основном диполь-дипольным отталкивательным взаимодействием между адсорбированными атомами Cs и атомами вытесняющего элемента, приводящим к понижению времени жизни атомов Cs на поверхности. При покрытиях, бо́льших монослойного, процесс вытеснения имеет более сложный характер.