Влияние пластической деформации на интенсивность эмиссии Оже-электронов в монокристалле вольфрама

Экспериментально показано, что имеет место уменьшение на 5% интенсивностей Оже-линий с энергиями 166 и 172 эВ в монокристалле вольфрама на дислокационной полосе, полученной в результате пластической деформации. Падение интенсивностей Оже-пиков объясняется уменьшением плотности поверхностных атомов в районе дислокационной полосы вследствие изменения объема и генерации вакансий.