RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Физика твердого тела // Архив

Физика твердого тела, 1986, том 28, выпуск 7, страницы 2053–2056 (Mi ftt426)

Исследование фотоинжекции водорода в оксидах переходных металлов с помощью ядерной реакции $^{2}$D$(^{3}$He, $p)\alpha$

А. И. Гаврилюк, Г. М. Гусинский, А. А. Мансуров, Л. А. Рассадин, Ф. А. Чудновский

Физико-технический институт им. А. Ф. Иоффе АН СССР, г. Ленинград

Аннотация: С помощью ядерной реакции $^{2}$D$/^{3}$He, $p/\alpha$ определена адсорбционная способность аморфных и поликристаллических пленок оксидов переходных металлов (ОПМ) — WO$_{3}$, MoO$_{3}$, V$_{2}$O$_{5}$. Исследована кинетика адсорбции метанола на пленках этих оксидов, определена удельная поверхность пленок. Обнаружено, что фотоинжекция водорода приводит к росту адсорбционной способности пленок ОПМ. Показано, что десорбция метанола резко понижается при уменьшении влажности воздуха, а также при переходе от монослойной к полислойной конденсации метанола на поверхности пленок ОПМ.

УДК: 539.213.2

Поступила в редакцию: 28.08.1985
Исправленный вариант: 09.01.1986



Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024