Кинетика медленной адсорбции H$_{2}$O на Si(111)${-}7{\times}7$

Методом термодесорбции исследована кинетика адсорбции H$_{2}$O на Si(111)${-}7{\times}7$ при давлениях паров воды ${2\cdot10^{-9}{-}5\cdot10^{-6}}$ Па. Установлено, что степень хемосорбированного покрытия поверхности водородом и кислородом зависит не только от экспозиции в нарах воды, пропорциональной произведению давления пара на время экспозиции, но и от давления пара отдельно. В указанном диапазоне давлений коэффициент прилипания меняется от 0.08 до 0.009 соответственно. Возможный механизм явления состоит в реакции образования адслоя — поверхностной фазы гидросиликата вдоль ступеней. Поверхностная диффузия кремния к полосам этой фазы вдоль ступеней, продиктованная требованиями стехиометрии, должна, если она происходит, вести к зависимости скорости реакции не только от экспозиции, но и от времени, а значит, и от давления.