Аннотация:
Проводится сравнение изменения электрических свойств при легировании у La$_{2}$CuO$_{4}$ и La$_{2}$NiO$_{4}$. Делается предположение, что более высокое сопротивление и отсутствие регулярной и объемной сверхпроводимости у La$_{2}$NiO$_{4}$ обусловлены затруднениями в трансляции как одиночных носителей, так и пар при наличии большой энергии Хунда у ионов Ni$^{2+}$ (высокоспиновых). Плохо воспроизводимая поверхностная сверхпроводимость La$_{2}$NiO$_{4}$ по аналогии с аномально высокотемпературной сверхпроводимостью ($T_{c} > 200$ К) у некоторых образцов YBa$_{2}$Cu$_{3}$O$_{7-\delta}$ объясняется образованием эпитаксиальной пленки Ni$_{2}$O$_{2}$. Восстановленная пленка Ni$_{2}$O$_{2-\delta}$, как и окисленная пленка Cu$_{2}$O$_{2+\delta}$, содержит удвоенную по отношению к слою MeO$_{2}$ концентрацию катионов с промежуточной валентностью $3d^{9}{-}3d^{8}$.
УДК:
537.312.62
Поступила в редакцию: 06.05.1990 Исправленный вариант: 03.01.1991