Аннотация:
Исследованы зависимости $j_{c}(\rho)$ и $I_{c}(T)$, где $\rho$ — удельная плотность плавленой и гранулированной иттриевых керамик. Показано, что порог протекания металлооксида ${x_{c}=x_{c0}/p}$. Здесь ${x_{c0}=2.1\,\text{г/см}^{3}}$ — порог протекания в однофазной керамике, а $p$ — доля сверхпроводящей фазы. Найдено, что зависимости $I_{c}(T)$ исследованных образцов, приготовленных при разных режимах термообработки, совпадают с зависимостями плавленой керамики. Сделан вывод о том, что основная часть толщины межзеренных прослоек иттриевой керамики появляется вследствие образования аморфной прослойки в области контакта гранул с разной ориентацией кристаллических структур.