Влияние подложки на процесс кристаллизации PZT пленок, приготовленных методом лазерного распыления

Исследованы особенности кристаллизации аморфных слоев Pb(Zr, Ti)O$_{3}$, приготовленных методом лазерного распыления. Показана возможность формирования четко текстурированных слоев Pb(Zr, Ti)O$_{3}$ на подложках, обеспечивающих малые различия в параметрах решетки. Предложен механизм, объясняющий образование углублений на поверхности пленок Pb(Zr, Ti)O$_{3}$ в процессе их рекристаллизации.