Аннотация:
Методом спектроскопии комбинационного рассеяния света (${\lambda = 488}$ нм) исследовано структурное состояние ионно-аморфизированного кремния до и после воздействия наносекундного излучения рубинового лазера при плотностях энергии как выше, так и ниже порога кристаллизации. Подтверждается возможность релаксационных процессов в аморфном слое при допороговых, не приводящих к плавлению кремния, режимах моноимпульсного облучения. На стадии предплавления вероятно возникновение кристаллических зародышей, обеспечивающих последующий гетерогенный рост зерен в окружении жидкой фазы и образование мелкодисперсного поликристалла.