Эта публикация цитируется в
1 статье
Полупроводники
Оптическая характеризация структурных и электрических свойств нанослоев $n$-GaP, выращенных на проводящих подложках (001) $n$-GaP
Б. Х. Байрамов,
В. В. Топоров,
Ф. Б. Байрамов Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, Санкт-Петербург, Россия
Аннотация:
Сообщается о результатах исследования структурных и электрических свойств гомоэпитаксиального наномасштабного слоя (001)
$n$-GaP, толщиной 70 nm, выращенного методом газофазной эпитаксии из металлоорганических соединений на проводящей сильнолегированной подложке кристалла
$n$-GaP, ориентированного по оси (001). В спектре рамановского рассеяния света такого нанослоя
$n$-GaP в образце
$n$-GaP/
$n$-GaP (001) в сравнении со спектром высокоомного кристаллического образца (001)
$si$-GaP удалось обнаружить две достаточно узкие линии, приписанные колебаниям поперечных TO(
$\Gamma$)
$_{-}$ фононов и высокочастотным продольным связанным плазмон-фононным LO(
$\Gamma$)
$_{+}$ колебаниям. При этом установлено, что спектральные параметры LO(
$\Gamma$)
$_{+}$ колебаний как в нанослое
$n$-GaP, так и в подложке (001) n-GaP существенно отличаются между собой, а также и от спектральных параметров линии продольных оптических LO(
$\Gamma$)
$_{-}$ фононов. Анализ выявленных строгих количественных особенностей спектральных параметров позволил получить ценную информацию о совершенстве кристаллической структуры наномасштабного гомоэпитаксиального слоя (001)
$n$-GaP. Помимо этого, показано что, численные расчеты на основе микроскопической модели рассеяния света LO(
$\Gamma$)
$_{+}$ колебаниями, обусловленного механизмами деформационного потенциала и электрооптическим рассеянием, позволили бесконтактным и неразрушающим образом определить концентрацию
$n$ и подвижность
$\mu$ свободных носителей заряда гомоэпитаксиального слоя наномасштабной толщины и проводящей сильнолегированной подложки. Полученные значения оказались
$n_{\operatorname{hepi}}$=(3.25
$\pm$ 0.1)
$\cdot$10
$^{17}$ cm
$^{-3}$ и подвижности
$\mu_{\operatorname{hepi}}$=(40.0
$\pm$ 0.1) cm
$^{2}\cdot$ V
$^{-1}\cdot s^{-1}$ для гомоэпитаксиального слоя (001)
$n$-GaP в сравнении с
$n_{\operatorname{subs}}$=(2.52
$\pm$ 0.1)
$\cdot$10
$^{17}$ cm
$^{-3}$ и
$\mu_{\operatorname{subs}}$=(51.0
$\pm$ 0.1) cm
$^{2}\cdot$ V
$^{-1}\cdot s^{-1}$ для подложки (001)
$n$-GaP образца
$n$-GaP/
$n$-GaP (001).
Ключевые слова:
гомоэпитаксиальный наномасштабный слой (001) $n$-GaP, сильнолегированная подложка, концентрация и подвижность носителей заряда. Поступила в редакцию: 10.09.2020
Исправленный вариант: 10.09.2020
Принята в печать: 16.09.2020
DOI:
10.21883/FTT.2021.01.50402.193