Аннотация:
С целью установления механизма пластической деформации сопоставлены твердость и локальная пластичность аморфного сплава (АС) Fe$_{78}$P$_{20}$Si$_{2}$ и на разных стадиях его кристаллизации, активируемой термической (TO) при 300–750$^\circ$С или кратковременной фотонной обработкой (ФО) с дозой поступающего на образец излучения 10–60 J/cm$^{-2}$. Фазовый состав и структуру исследовали методами рентгеновской дифрактометрии и просвечивающей электронной микроскопии высокого разрешения. При общей последовательности структурных изменений скорость кристаллизации при ФО более чем на два порядка величины больше, чем при ТО, что свидетельствует об эффекте большой скорости ввода энергии активации процесса. Установлена немонотонная зависимость твердости, модуля упругости и доли пластической деформации в работе индентирования в зависимости от температуры отжига или дозы поступающего на образец излучения, как следствие структурных изменений в сплаве. При этом локальная пластичность исходного сплава и полностью кристаллизованного близки по величине. Исходя из особенностей кристаллической структуры фазы Fe$_{3}$P (соответственно, невозможности дислокационного механизма пластической деформации) и в предположении об идентичности структурной единицы (тетраэдрический кластер Fe$_{3}$P) кристаллизованного и аморфного сплава, сформулирован вывод о кластерном механизме пластической деформации АС.