Stochastic simulation of nano-scale surface and near surface region modification: high-temperature blistering and thin films formation

Данная работа посвящена рассмотрению таких важных в нанотехнологическом плане процессов как блистеринг и образование тонких пленок на поверхности материала. Эти явления изменяют не только свойства материала подложки, но и свойства пристеночной плазмы. Изучение данных процессов проводится с помощью математического моделирования. Созданы кинетические и стохастические модели флуктуационных стадий рассматриваемых процессов, которые основаны на кинетической теории, модели Броуновского движения и методе стохастического аналога. Флуктуационная стадия является чрезвычайно быстропротекающей во времени, но играет существенную роль для дальнейшего протекания как блистеринга, так и процесса формирования тонких пленок. Модифицирован метод второго порядка точности решения стохастических дифференциальных уравнений для применения к рассматриваемым задачам. Полученные физические результаты совпадают с экспериментальными данными и могут служить основой для проведения лабораторных экспериментов.