RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Письма в Журнал экспериментальной и теоретической физики // Архив

Письма в ЖЭТФ, 2011, том 94, выпуск 2, страницы 116–119 (Mi jetpl1961)

Эта публикация цитируется в 6 статьях

КОНДЕНСИРОВАННОЕ СОСТОЯНИЕ

Ионная имплантация в металлы с одновременным электронным облучением

С. Н. Звонков, С. Н. Коршунов, Ю. В. Мартыненко, И. Д. Скорлупкин

Российский научный центр "Курчатовский институт", г. Москва

Аннотация: Обнаружено изменение распределений атомов азота и углерода, имплантированных с энергиями $10$ и $30$ кэВ, по глубине образцов из никеля и нержавеющей стали в результате сопутствующего облучения электронами с энергией $1$ кэВ. Вместо одного максимума распределения появляются два максимума, один ближе к поверхности, а второй на большей глубине, чем при имплантации без электронного облучения. Влияние электронного облучения объясняется образованием в системе атомов примеси зоны, находящейся выше уровня Ферми, в которую электроны металла переходят в результате возбуждения бомбардирующими электронами. Электроны в этой зоне имеют достаточно большое время жизни и увеличивают подвижность атомов примесей.

Поступила в редакцию: 20.05.2011


 Англоязычная версия: Journal of Experimental and Theoretical Physics Letters, 2011, 94:2, 112–115

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024