Аннотация:
Описано влияние ненасыщенных паров воды на кварцевые резонаторы, на поверхности которых путем магнетронного распыления были сформированы оксидные пленки. Описана методика высокопрочных измерений влияния малых концентраций паров на изменение частот кварцевых генераторов. Предложено новое модельное описание процесса адсорбции на поверхности Al$_2$O$_3$. Модель позволяет перечислить слои воды, образующиеся на поверхности, и установить число слоев в зависимости от условий эксперимента. Оценки параметров адсорбции согласуются с известными экспериментальными данными и результатами, полученными в работах других авторов.