RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Журнал технической физики // Архив

ЖТФ, 1985, том 55, выпуск 5, страницы 979–980 (Mi jtf1269)

Краткие сообщения

Стабильность аморфного диоксида кремния после нейтронного облучения или барического воздействия

Л. М. Ланда, В. В. Большаков, Л. В. Заболотский, В. А. Ключников

Кемеровский государственный университет

УДК: 539.213

Поступила в редакцию: 12.07.1984



Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024