RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Журнал технической физики // Архив

ЖТФ, 1986, том 56, выпуск 5, страницы 850–855 (Mi jtf174)

Плазма

Прилипательно-колебательная неустойчивость

А. В. Елецкий


Аннотация: Рассмотрено влияние зависимости константы скорости диссоциативного прилипания электрона к молекуле от степени ее колебательного возбуждения на устойчивость разряда высокого давления. При положительной зависимости указанное влияние проявляется в периодических осцилляциях локальных значений плотности электронов в разряде. Экспериментально подобные осцилляции наблюдались при возбуждении эксимерного лазера на ХеСl. Отрицательная зависимость приводит к экспоненциальному нарастанию плотности электронов в разряде. На основании простой модели найдены условия возникновения неустойчивости, а также значения периода осцилляции и инкремента нарастания плотности электронов. Исследовано влияние объемной рекомбинации на характер проявления рассмотренных механизмов нарушения стационарного режима горения разряда.

УДК: 533.951

Поступила в редакцию: 11.05.1985
Исправленный вариант: 11.07.1985



Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024