RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Журнал технической физики // Архив

ЖТФ, 1986, том 56, выпуск 5, страницы 873–877 (Mi jtf177)

Квантовая электроника

Динамика изменения потенциала заряженной мишени при воздействии лазерной плазмы

Б. И. Васильев, А. З. Грасюк, Л. Л. Лосев, Е. А. Мешалкин

Физический институт им. П. Н. Лебедева АН СССР,Москва

Аннотация: Изучены временные зависимости изменения потенциала заряженной металлической мишени под действием лазерной плазмы и тока в системе плазма–мишень. Обнаружены две стадии изменения потенциала — «быстрая» и «медленная». Показано, что изменение потенциала вызвано перераспределением заряда между мишенью и ореолом УФ ионизации воздуха. Получены зависимости амплитуды тока от плотности энергии лазерного излучения с ${\lambda=10.6}$ и 1.06 мкм, геометрических размеров плазмы и давления воздуха.

УДК: 533.024

Поступила в редакцию: 12.03.1985
Исправленный вариант: 14.06.1985



Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024