Самаркандский государственный педагогический институт им. С. Аини
Аннотация:
Теоретически рассматриваются процессы фазовых превращений
в SiO$_{2}$ при ионной имплантации. Рассчитаны числа точечных дефектов и дозы
аморфизации кварца для ионов В$^{+}$, O$^{+}$, Si$^{+}$, Аr$^{+}$. Показано,
что доза, при которой равномерно аморфизуется кристаллический кварц
с увеличением энергии Е, возрастает. Скорость роста с увеличением массы
иона уменьшается.