RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Журнал технической физики // Архив

ЖТФ, 1986, том 56, выпуск 6, страницы 1142–1149 (Mi jtf232)

Квантовая электроника

Влияние условий выращивания на параметры многоволновых ДГС лазеров

В. А. Ан, С. А. Никишин, Е. Л. Портной, Д. В. Синявский

Физико-технический институт им. А. Ф. Иоффе АН СССР,Ленинград

Аннотация: Метод селективной безмасочной электрожидкостной эпитаксии (СБЭЖЭ) может быть использован при получении гетероструктур для многоволновых лазеров в системе арсенид галлия–арсенид алюминия. Локальное пропускание постоянного электрического тока через подложку сопровождается изменением толщины и состава активной области в плоскости, параллельной поверхности подложки. Изменение состава активного слоя в методе СБЭЖЭ достигается в основном вблизи границы локального электрического контакта. Токовое подтравливание активного слоя может приводить как к срыву генерации, так и к снижению пороговой плотности тока в ДГС лазерах.

УДК: 621,378,325

Поступила в редакцию: 04.06.1985



Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024