Формирование в вакуумных протяженных каналах пристеночной плазмы

Предложено и экспериментально показано, что для генерации пристеночной плазмы в вакуумных цилиндрических протяженных каналах можно применять незавершенный разряд по поверхности диэлектрика. Формируемая при этом плазма достаточна однородна по длине канала и азимуту. Максимальная концентрация электронной компоненты в экспериментах составляла ${\sim10^{17}\,\text{м}^{-3}}$ при давлении остаточного газа ${P\sim10^{-5}}$ Тор. Длина исследуемого канала составляла 1.8 м, а диаметр 0.05 м. Приведены основные формулы, необходимые при разработке рассмотренных плазменных каналов.
Работа выполнена в Отделе новых методов ускорения ОИЯИ.