Аннотация:
Методом вторично-ионной масс-спектрометрии определены профили
распределения элементов по толщине аморфных и кристаллических областей
оксида тантала, подвергнутого в контакте с электролитом длительному
электротепловому нагружению, С использованием изотопа О$^{18}$ показано,
что источником кислорода в процессе электростимулированного роста
кристаллов в системе металл–аморфный оксид–электролит является электролит.
На основании анализа распределения примесей установлено, что на образование
кристаллической фазы вещество исходного аморфного оксида не расходуется.
Указаны основные факторы, определяющие стабильность структуры
и свойств аморфных диэлектрических материалов и
технических устройств на их основе.