RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Журнал технической физики // Архив

ЖТФ, 1988, том 58, выпуск 2, страницы 399–402 (Mi jtf2758)

Исследования процесса электростимулированного роста кристаллов в системе металл–аморфный оксид–электролит методом вторично-ионной масс-спектрометрии

А. П. Коварский, А. В. Новотельнова, С. Д. Ханин, Н. Л. Чернюс


Аннотация: Методом вторично-ионной масс-спектрометрии определены профили распределения элементов по толщине аморфных и кристаллических областей оксида тантала, подвергнутого в контакте с электролитом длительному электротепловому нагружению, С использованием изотопа О$^{18}$ показано, что источником кислорода в процессе электростимулированного роста кристаллов в системе металл–аморфный оксид–электролит является электролит. На основании анализа распределения примесей установлено, что на образование кристаллической фазы вещество исходного аморфного оксида не расходуется. Указаны основные факторы, определяющие стабильность структуры и свойств аморфных диэлектрических материалов и технических устройств на их основе.



Реферативные базы данных:


© МИАН, 2025