RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Журнал технической физики // Архив

ЖТФ, 1986, том 56, выпуск 8, страницы 1562–1568 (Mi jtf317)

Эта публикация цитируется в 2 статьях

Плазма

Скорость диссоциации молекулярного водорода в приэлектродном слое низкотемпературной плазмы

Ф. Г. Бакшт, В. Г. Иванов

Физико-технический институт им. А. Ф. Иоффе АН СССР,Ленинград

Аннотация: Теоретически определена скорость диссоциации молекулярного водорода в приэлектродном слое плазмы сильноточного низковольтного разряда. Учтено наличие неравновесного распределения по энергии у свободных электронов, связанного с инъекцией электронного пучка с катода в водородную плазму. В уравнениях электронно-колебательной кинетики учтены процессы $v{-}v$ обмена, $v{-}t$ обмена с атомами и молекулами водорода, процессы $e{-}v$ обмена и диссоциативного прилипания под действием тепловых электронов плазмы, процессы прямой диссоциации под действием тепловых электронов и электронов пучка. Показано, что наличие в прикатодной области низковольтного разряда в водороде пучка неравновесных электронов катодной эмиссии приводит к существенному увеличению скорости диссоциации при токах эмиссии ${{}\gtrsim10\,\text{А/см}^{2}}$ и степенях ионизации плазмы ${{}\lesssim10^{-3}}$. Определена концентрация отрицательных ионов водорода, образующихся в приэлектродном слое вследствие диссоциативного прилипания, и показано, что она может достигать значительной величины при параметрах, характерных для плазмы низковольтного разряда в водороде.

УДК: 537.521

Поступила в редакцию: 30.07.1985



Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024