RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Журнал технической физики // Архив

ЖТФ, 1989, том 59, выпуск 1, страницы 92–97 (Mi jtf3173)

Твердотельная электроника

Влияние внутренних потоков в расплаве при росте эпитаксиальных слоев на движущуюся подложку

Д. З. Гарбузов, А. В. Васильев, Е. В. Журавкевич, В. П. Чалый, А. Л. Тер-Мартиросян, А. В. Овчинников, В. Б. Халфин


Аннотация: Исследованы особенности процессов роста эпитаксиальных слоев на движущуюся относительно расплава подложку. Определены зависимости толщины слоя от времени роста при различных формах ростовых ячеек и различных скоростях движения подложки. Предложена модель и сделаны оценки влияния внутренних потоков в расплаве на условия роста эпитаксиальных слоев при движении подложки.



Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024