RUS
ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ
// Журнал технической физики
// Архив
ЖТФ,
1989
, том 59,
выпуск 1,
страницы
190–191
(Mi jtf3191)
Краткие сообщения
Влияние облучения на интенсивность излучения релятивистских электронов в кристалле Si
В. И. Касилов
, Н. И. Лапин
, С. Ф. Щербак
Полный текст:
PDF файл (322 kB)
Реферативные базы данных:
©
МИАН
, 2025