RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Журнал технической физики // Архив

ЖТФ, 1989, том 59, выпуск 1, страницы 190–191 (Mi jtf3191)

Краткие сообщения

Влияние облучения на интенсивность излучения релятивистских электронов в кристалле Si

В. И. Касилов, Н. И. Лапин, С. Ф. Щербак




Реферативные базы данных:


© МИАН, 2025