RUS
ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ
// Журнал технической физики
// Архив
ЖТФ,
1989
, том 59,
выпуск 1,
страницы
200–202
(Mi jtf3195)
Краткие сообщения
Формирование скрытого слоя
$\beta$
-Si
$_{3}$
N
$_{4}$
при высокоинтенсивном ионном облучении (ВИО) кремния
И. А. Бачило
, Р. В. Грибковский
,
Ф. Ф. Комаров
, В. А. Мироненко
,
А. П. Новиков
Полный текст:
PDF файл (392 kB)
Реферативные базы данных:
©
МИАН
, 2025