RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Журнал технической физики // Архив

ЖТФ, 1989, том 59, выпуск 1, страницы 200–202 (Mi jtf3195)

Краткие сообщения

Формирование скрытого слоя $\beta$-Si$_{3}$N$_{4}$ при высокоинтенсивном ионном облучении (ВИО) кремния

И. А. Бачило, Р. В. Грибковский, Ф. Ф. Комаров, В. А. Мироненко, А. П. Новиков




Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024