RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Журнал технической физики // Архив

ЖТФ, 1989, том 59, выпуск 2, страницы 106–110 (Mi jtf3213)

Твердотельная электроника

Формирование неоднородности состава кристаллов арсенида галлия, обусловленной дислокациями

И. А. Ковальчук, А. В. Марков, М. В. Меженный, М. Г. Мильвидский, В. Б. Освенский


Аннотация: Исследован характер корреляций между радиальными распределениями удельного сопротивления $\rho$ и коэффициента интенсивности и напряжений $k_{1c}$, с одной стороны, и плотности дислокаций $N_{d}$ с другой, в монокристаллах нелегированного арсенида галлия. Показано, что экстремальный характер зависимостей $\rho$ и $k_{1c}$ от состава кристалла обусловливает смену характера корреляции с распределением $N_{d}$ при увеличении содержания мышьяка. Полученные данные свидетельствуют в пользу вывода об обогащении мышьяком областей с повышенной $N_{d}$ Рассмотрен механизм формирования неоднородности состава кристалла, коррелирующей с распределением дислокаций.



Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024