Аннотация:
Исследованы резистивные и нормальные домены
сверхпроводящих пленок в состоянии слабой андерсоновской локализации.
Впервые осуществлено прямое визуальное наблюдение за ними, которое
становится возможным вследствие развития в окружающем жидком гелии режимов
пузырькового и пленочного кипения. Режим пузырькового кипения в условиях
слабого избыточного давления паров над гелиевой ванной обладает высокой
чувствительностью и позволяет регистрировать резистивные домены с температурой
перегрева в центре по крайней мере в 0.01 K. Изучена структура доменов на
разных этапах их формирования, получены и проанализированы их вольт-амперные
характеристики. Исследована динамика резистивных и нормальных доменов:
процесс их роста, движение под действием различных сил, условия генерации,
стабилизации и взаимодействия с дефектами структуры. Проведено теоретическое
описание движения нормальных доменов под действием архимедовой силы.