Концентрация электронов в СВЧ плазмотроне с внешним магнитным полем

Исходя из дифференциального уравнения диффузии электронов во внешнем магнитное поле, определены концентрация и специфика пространственного распределения электронов в диэлектрическом цилиндре-реакторе установки СВЧ вакуумно-плазменного травления. Исследованы стационарные режимы горения плазмы, его устойчивости. На основании формулы для концентрации электронов приведены решения некоторых практических задач в обеспечении оптимизации технологического процесса СВЧ вакуумно-плазменного травления микроструктур.
Представлено физическое описание процессов, имеющих актуальное техническое применение в разработке и создании современного оборудования микроэлектроники.